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      日機構成功開發出金屬絲高速連續電鍍技術

      日本的物質材料研究機構和從事電鍍技術的Hikifune于2007年6月8日宣布開發成功一種新型電鍍技術,可以每小時大約5m的速度在金屬絲上鍍上厚達150μm的銅(Cu)。該技術的特點是:接合緊密、不易剝離。目前正在探討應用領域。
      該電鍍工藝首先利用被稱作離子鍍(IonPlating)的等離子蒸鍍工藝,在線材上鍍上一層厚度僅1μm的銅。離子鍍是在玻璃上電鍍金屬時常用的工藝,目前廣泛應用于機械、汽車后視鏡(DoorMirror)等領域。通過該工藝,可大大提高電鍍的接合緊密性,即使金屬絲大幅彎曲,也不會發生剝離。然后利用加有硫酸銅等的電鍍溶液,通過電解進行電鍍。這時,通過將電鍍溶液的條件調整到最佳,就可以以每小時大約5m的速度進行電鍍。此前的電鍍速度為每小時約1m。
      該技術最初是為了讓產生強磁場的——鈮·鋁(Nb-Al)類超導線材保持穩定的超導性能而開發的。在超導狀態因熱和電磁等而遭到部分破壞的情況下,通過向所鍍的銅通電,恢復超導狀態。此前則無法在線材上形成較厚的鍍膜,也無法得到穩定的超導。
      物質材料研究機構主任研究員菊池章弘對該技術的推廣寄予了厚望,“雖然該電鍍技術是為推動超導線材而開發的,但希望能夠不局限于超導線材,在更廣泛的領域得到應用”。

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