中國市場看好 半導體設備巨頭加快布局
SEMI的統計數據顯示：2007年全球半導體設備總銷售額為416.8億美元，較2006年小幅增長3%；而2008年總銷售額預計為410.5億美元，較2007年減少1.5%。半導體市場的周期變化總是牽動人心，而在這種變化中，中國市場又總令人期待。在SEMICONChina2008召開之際，我們特邀請業內知名半導體設備、測試及材料廠商對未來產業走勢和中國市場熱點及中國市場策略發表見解，讓我們共同分享業界領袖的精彩觀點。
ASML中國區總經理劉天兵
研發投入與外包模式是成功因素
亞洲地區仍然是ASML公司2008年業務增長非常重要的一環，而中國也是ASML重要的市場。2007年，ASML全球業務營收接近70%來自亞洲地區，中國的銷售也達到了歷史新高，這要感謝客戶對ASML的支持。
2008年，預計中國的半導體制造商仍會盡力利用二手200毫米工具進一步擴展其低成本產能，同時也將會在最先進的300毫米光刻設備中增加投資。引進先進的技術進行生產將有助于中國的半導體廠商增強競爭力。
在產品方面，ASML針對非關鍵性的300毫米光刻設備，在TWINSCAN平臺上提供了一系列iLine和KrF設備。在2007年7月，ASML推出了最新的TWINSCAN系統XT1000，將別具成本優勢的KrF技術擴展至以前需要昂貴的ArF技術才能達到的高分辨率領域。利用這個系統，客戶能夠節省每層的成本達30%。這是因為KrF技術的運作成本更低，尤其是KrF激光器和KrF光阻等材料的成本更低。
在高端光刻部分，ASML浸沒式光刻機能夠滿足客戶為實現當前環境所需的集成度和成本目標而迅速采用先進技術的迫切需要。這些設備讓芯片產業能夠在硅晶圓上進行更小線寬的成像。芯片廠商需要制造出線寬更小、密度更高的集成電路，以提升芯片設計的功能，為當今的計算和消費電子產品提供動力。
ASML最新的浸沒式設備TWINSCANXT1900i能夠實現40納米存儲器的量產。自2007年7月首次交付使用以來，ASML已交付了20臺XT1900i設備給客戶。2007年是浸沒式光刻設備量產的開始，預計2008年浸沒式設備的凈銷售額將較2007年翻一番。
ASML成功的另一個因素在于研發方面的投入。此外，ASML的外包模式也是成功的要素之一，這些設備當中高達90%的組件都是由主要的供貨商提供，有助于降低客戶的成本。而我們的供貨商正希望尋找更多的亞洲區制造商以進一步降低成本。
ASML深知光刻技術必須具有成本效益和技術先進性，而在全球范圍，客戶已在ASML的浸沒式設備上加工超過800萬片晶圓片以實現功能更強大的芯片和更出色的電子應用。憑借2007年強勁的走勢，我們得以開始擴大制造設施，全面增加全球的研發投資。作為各式光刻設備供貨商，ASML將會繼續努力，協助提高客戶的生產力以及設備的成像和套刻性能，讓我們在這一要求非?？量痰男袠I中，繼續為滿足客戶的需求而努力。
應用材料（中國）公司總經理姚公達
根據客戶特點提供針對性產品和服務
應用材料是全球最大的納米制造技術廠商之一，也是第一家進入中國市場的外資半導體設備供應商。
ASML中國區總經理劉天兵
研發投入與外包模式是成功因素
亞洲地區仍然是ASML公司2008年業務增長非常重要的一環，而中國也是ASML重要的市場。2007年，ASML全球業務營收接近70%來自亞洲地區，中國的銷售也達到了歷史新高，這要感謝客戶對ASML的支持。
2008年，預計中國的半導體制造商仍會盡力利用二手200毫米工具進一步擴展其低成本產能，同時也將會在最先進的300毫米光刻設備中增加投資。引進先進的技術進行生產將有助于中國的半導體廠商增強競爭力。
在產品方面，ASML針對非關鍵性的300毫米光刻設備，在TWINSCAN平臺上提供了一系列iLine和KrF設備。在2007年7月，ASML推出了最新的TWINSCAN系統XT1000，將別具成本優勢的KrF技術擴展至以前需要昂貴的ArF技術才能達到的高分辨率領域。利用這個系統，客戶能夠節省每層的成本達30%。這是因為KrF技術的運作成本更低，尤其是KrF激光器和KrF光阻等材料的成本更低。
在高端光刻部分，ASML浸沒式光刻機能夠滿足客戶為實現當前環境所需的集成度和成本目標而迅速采用先進技術的迫切需要。這些設備讓芯片產業能夠在硅晶圓上進行更小線寬的成像。芯片廠商需要制造出線寬更小、密度更高的集成電路，以提升芯片設計的功能，為當今的計算和消費電子產品提供動力。
ASML最新的浸沒式設備TWINSCANXT1900i能夠實現40納米存儲器的量產。自2007年7月首次交付使用以來，ASML已交付了20臺XT1900i設備給客戶。2007年是浸沒式光刻設備量產的開始，預計2008年浸沒式設備的凈銷售額將較2007年翻一番。
ASML成功的另一個因素在于研發方面的投入。此外，ASML的外包模式也是成功的要素之一，這些設備當中高達90%的組件都是由主要的供貨商提供，有助于降低客戶的成本。而我們的供貨商正希望尋找更多的亞洲區制造商以進一步降低成本。
ASML深知光刻技術必須具有成本效益和技術先進性，而在全球范圍，客戶已在ASML的浸沒式設備上加工超過800萬片晶圓片以實現功能更強大的芯片和更出色的電子應用。憑借2007年強勁的走勢，我們得以開始擴大制造設施，全面增加全球的研發投資。作為各式光刻設備供貨商，ASML將會繼續努力，協助提高客戶的生產力以及設備的成像和套刻性能，讓我們在這一要求非?？量痰男袠I中，繼續為滿足客戶的需求而努力。
應用材料（中國）公司總經理姚公達
根據客戶特點提供針對性產品和服務
應用材料是全球最大的納米制造技術廠商之一，也是第一家進入中國市場的外資半導體設備供應商。
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