英特爾全球投入80億實施45納米升級計劃
據國外媒體報道，英特爾公司2月26日宣布，將投資10到15億美元對美國新墨西哥州的芯片廠進行技術改造，以便能夠使用45納米工藝生產下一代電腦芯片。
英特爾這座芯片廠位于新墨西哥州的Rio Rancho。
在此輪技術改造完成之后，該工廠將于明年下半年開始轉移到45納米工藝。
英特爾公司此前已經表示，將分別向美國亞利桑那州錢德勒和以色列的芯片廠投資30和35億美元，用于提升芯片廠工藝。
英特爾公司最近表示，仍將按照原定計劃在今年下半年采用45納米工藝生產芯片，而競爭對手AMD公司稍微落后一步，將在2008年年中推出45納米芯片。
芯片線寬和晶圓面積是半導體行業產業升級的兩個主要方向，更小的線寬意味著同一片晶圓可以產出更多的芯核，不僅成本降低，同時芯片的功耗也會降低。目前45納米線寬是半導體行業最先進的制造工藝。
英特爾這座芯片廠位于新墨西哥州的Rio Rancho。
在此輪技術改造完成之后，該工廠將于明年下半年開始轉移到45納米工藝。
英特爾公司此前已經表示，將分別向美國亞利桑那州錢德勒和以色列的芯片廠投資30和35億美元，用于提升芯片廠工藝。
英特爾公司最近表示，仍將按照原定計劃在今年下半年采用45納米工藝生產芯片，而競爭對手AMD公司稍微落后一步，將在2008年年中推出45納米芯片。
芯片線寬和晶圓面積是半導體行業產業升級的兩個主要方向，更小的線寬意味著同一片晶圓可以產出更多的芯核，不僅成本降低，同時芯片的功耗也會降低。目前45納米線寬是半導體行業最先進的制造工藝。
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