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品牌與型號
本產品為IMM品牌推出的CC-2000 CombiCleaner五雙口噴嘴十向自動清洗裝置，專用于需要高效、多方向同步清潔與碎屑收集的超大型工業場景。產品由專業制造商生產，核心功能是通過五組雙口噴嘴與十向清洗設計，結合吸塵槽系統，實現大面積、高精度的表面清潔，并實時收集清洗過程中產生的碎屑、粉塵或液體，適用于電子制造、精密機械加工、光學儀器維護等對清潔效率與環境整潔有極高要求的領域。

產品介紹
IMM CC-2000 CombiCleaner自動清洗裝置采用一體化設計，集成五組雙口噴嘴清洗模塊與吸塵槽系統。其工作原理為：清洗模塊通過五組雙口噴嘴（共10個噴嘴）輸出清潔介質（如壓縮空氣、惰性氣體或少量液體），結合機械刷洗或氣流吹掃，去除物體表面污漬（如金屬碎屑、油污、粉塵）；吸塵槽通過內置風機產生負壓，實時吸附清洗過程中脫落的碎屑或液體，避免二次污染。設備支持十向清洗（噴嘴可調整至10個不同方向），覆蓋更復雜的表面結構，同時通過自動化控制（PLC或觸控屏）實現無人值守作業，適配超大型流水線或固定工作臺的安裝需求。

功能特點
五雙口噴嘴與十向清洗：清洗模塊配備五組雙口噴嘴（共10個噴嘴），每組噴嘴可獨立調整噴射方向（水平、垂直或斜向），實現十向清潔，覆蓋更寬的清洗區域（清洗寬度可達500mm），同時通過雙口設計提升清潔介質的利用率，減少介質消耗。十向清洗能力尤其適合清潔具有復雜曲面、凹槽或多角度結構的超大型工件（如大型渦輪葉片、光學鏡片基座）。

同步清潔與收集：清洗模塊與吸塵槽協同工作，清洗過程中產生的碎屑、粉塵或液體被實時吸入吸塵槽，避免散落至工作環境，保持操作區域整潔，尤其適合對粉塵控制有嚴格要求的場景（如電子元件裝配、光學鏡頭加工）。

多介質兼容：清洗模塊支持壓縮空氣（壓力1.0-1.8MPa）、惰性氣體（如氮氣）或少量液體（如酒精、去離子水）作為清潔介質，可根據污漬類型（如油污、金屬碎屑）切換介質，提升清潔針對性。例如，針對頑固油污可選擇液體介質配合高壓空氣，針對微小粉塵則選擇純壓縮空氣。

自動化控制：設備支持參數預設（如清洗時間、噴嘴壓力、吸塵風量），可通過觸控屏（15英寸）或PLC接口（支持Modbus、EtherCAT、Profinet協議）與生產線聯動，實現無人值守的自動化清潔，降低人工干預成本，提升生產效率。

耐腐蝕與易維護：清洗模塊與吸塵槽內部接觸介質的部分采用耐腐蝕材料（如不銹鋼316L、PVC增強版），可適應液體或化學溶劑環境；吸塵槽濾網采用多層結構（初效+中效+高效濾網），濾網精度達3μm，可攔截微小粉塵；濾芯更換周期長（≥800小時），維護成本低。

技術參數
清洗模塊：
噴嘴數量：五組雙口噴嘴（共10個）
介質類型：壓縮空氣、惰性氣體、液體（可選）
噴嘴壓力：1.0-1.8MPa（可調）
清洗寬度：300-500mm（可調，通過噴嘴排列控制）
清洗速度：40-120mm/s（可調，適配不同物體尺寸）
噴射方向：十向（水平0°、±30°、±60°、垂直90°、±45°，共10個方向）
吸塵槽：
吸塵風量：3500-4000m³/h（可調）
負壓值：-3000至-3500Pa
濾網精度：3μm（高效濾網）+ 10μm（中效濾網）+ 20μm（初效濾網）
收集容量：50L（碎屑）、20L（液體）
電源與控制：
工作電壓：AC 380V±10%，50/60Hz（三相電）
功率：8000W（峰值）
控制方式：觸控屏（15英寸）+ PLC接口（支持Modbus、EtherCAT、Profinet協議）
尺寸與重量：
設備尺寸：長2500mm×寬2000mm×高2500mm
重量：500kg（含底座）
應用領域
電子制造：在超大型PCB板裝配、芯片封裝等工序中，清洗表面殘留的助焊劑、金屬碎屑，同時收集清洗廢液，避免污染后續工藝；維護半導體設備的清潔，確保光刻、蝕刻等精密加工的環境潔凈度，尤其適合大型晶圓或高密度PCB板的清潔。

精密機械加工：對超大型軸承、齒輪、導軌等部件進行表面清潔，去除切削液殘留或金屬毛刺，同時收集加工碎屑，保持工作臺整潔，減少設備磨損；十向清洗能力可適應復雜結構的機械部件（如大型渦輪發動機葉片、液壓閥體）。

光學儀器維護：清潔超大型相機鏡頭、天文望遠鏡鏡片、激光設備光學元件的表面，去除指紋、油漬或粉塵，吸塵槽實時收集清潔產生的微小顆粒，避免劃傷光學表面；十向清洗可精準覆蓋鏡片邊緣的凹槽或曲面。

醫療設備生產：在超大型手術器械（如不銹鋼手術臺）、診斷設備（如MRI磁體）的制造過程中，清洗表面血漬、組織殘留或消毒劑痕跡，同時收集清洗廢液，確保設備無菌與功能正常；多介質兼容性可適配不同清潔需求（如液體消毒劑殘留需用酒精清洗）。

實驗室設備：維護超大型精密儀器（如同步輻射裝置、粒子加速器）的采樣口、檢測腔體，去除實驗殘留的樣品或粉塵，吸塵槽保持操作區域清潔，避免交叉污染；自動化控制可與實驗室管理系統聯動，實現定時清潔。

維護與保養
清洗模塊需定期檢查噴嘴是否堵塞（每500小時），若使用液體介質，需清理管路避免殘留；吸塵槽濾網需每1200小時清洗一次（用壓縮空氣反吹或水洗），濾芯每8000小時更換一次；設備外殼需每周擦拭，保持清潔。若長期停用，需排空管路內介質，避免腐蝕；定期檢查噴嘴方向是否準確，確保十向清洗功能正常。

總結
IMM CC-2000 CombiCleaner五雙口噴嘴十向自動清洗裝置通過五組雙口噴嘴與十向清洗設計，實現了高效、多方向的清潔與碎屑收集。其多介質兼容、自動化控制的特點，結合耐腐蝕材料與易維護結構，適用于電子、精密機械、光學等對清潔效率與環境整潔有極高要求的超大型工業場景。設備安裝靈活，維護成本低，是現代化工業生產中提升清潔效率與產品質量的重要工具。